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激光電鍍區別于普通電鍍技術的良好表現

2019-09-26

真空電鍍UV底涂


  電鍍加工領域中新技術層出不窮,激光電鍍憑借獨特優異的性能在行業中嶄露頭角,其應用范圍也越來越廣。那么相比普通電鍍來說,激光電鍍的優勢又體現在哪些方面呢?


  作為一種高能束流電鍍技術,激光電鍍的應用對微電子器件和大規模集成電路的生產和修補具有重大意義。雖然激光電鍍原理、激光消融、等離子激光沉積和激光噴射等方面還在研究之中,但其技術已在實用。


  所謂的激光電鍍就是利用連續激光或沖激光照射在電鍍池中的陰極表面時,不僅能大大提高金屬的沉積速度,而且可用計算機控制激光束的運動軌跡而得到預期的復雜幾何圖形的無屏蔽鍍層。


  真空電鍍UV底涂如果將激光強化電鍍技術與電鍍液噴射技術結合起來的話,就形成了一種激光噴射強化電鍍技術,使激光與鍍液同步射向陰極表面,其傳質速度大大超過激光照射所引起的微觀攪拌的傳質速度,從而達到很高沉積速度。


  較普通電鍍而言,激光電鍍反映出的沉積速度是非??斓?,而且對于不同的鍍液來說,沉積速度的快慢也有不同。況且這種金屬沉積僅發生在激光照射區域,無需采用屏蔽措施便可得到局部沉積鍍層,從而簡化了生產工藝。


  從激光電鍍的結果來看,不僅鍍層結合力大大提高;而且容易實現自動控制;節約貴金屬、設備投資和加工時間,值得推廣。


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